而其中之一，就是要保证拥有制造芯片所需的最先进的光刻机。
说起光刻机，后世人们第一个想到的就是荷兰的阿斯麦公司。
其实在七八十年代的时候，咱们国家就已经有了国产光刻机。
国产第台光刻机-型半自动接近式光刻机诞生于年，而那个时候荷兰的阿斯麦连成立都没有成立。
光刻机是大系统高精尖技术和工程极限高度融合的结晶，被誉为集成电路产业链“皇冠上的明珠”。
日本的尼康和佳能于世纪年代末开始进入光刻机领域，中国利用光刻技术制造集成电路，大致也是始于同一时期。
但是中国的光刻机产业可以用一句话来形容，那就是起了个大早，赶了个晚集。
年，我国第块集成电路在北京，石家庄和上海等地相继问世，年月第次全国大规模集成电路工业会议召开，国家纪委在北京召开的“全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议”上，拟定的目标是在年到年，突破大规模集成电路的工艺装备基础材料等方面的关键技术，司机部组织京沪电子工业会战进行大规模集成电路及材料装备研发，突破超威力钢板，光刻胶超纯净试剂，高纯度气体磁场，偏转电子束镀膜机等材料装备。
年月第次全国大规模集成电路会议在上海召开，年月第次全国大规模集成电路会议在贵州召开，这三次会议可以说直接导致了上世纪年代前后，中科院系统电子部系统地方各研发单位光刻机成果的第次大爆发。
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